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exercices corrigés semi conducteur pdf
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Correction Exercice I : 1- Semiconducteurs intrinsèque EF
EC
Ei
m* 3 kT ln V* 4 mC
EV 2
0.09
2-
NC
mC* mV*
NC NV
EC
3 kT ln(35) 4
EV 2
0.069 0.156 eV 3/2
mC* kT 2 2
2
et
NV
mV* kT 2 2
2
3/2
3/2
4.83 10
3
Exercice II Semiconducteurs intrinsèques, A et B :
nA pB
NCA NVA e
niA niB
EgA
EgA
2 kT
2 kT
e
EgB
NCB NVB e
EgB
2 kT
e
e
(
nA
pA
niA
nB
pB
niB
EgA Eg B ) 2 kT
2.25 108
2 kT
Exercice III Considérons un échantillon de silicium de type n de longueur 0.1 m dans lequel le dopage varie de façon exponentielle de 5 1017 cm-3 à 5 1015 cm-3. 5- Rappeler la relation d’Einstein.
Dn n
kT q
6- Donner l’expression du courant des porteurs majoritaires Jn
J n,deriv
J n, Dif
q n nE qDn
dn( x) dx
7- En déduire l’expression du champ électrique à l'équilibre. q n nE qDn
dn( x) dx
0
n
nE
Dn
dn( x) dx
kT 1 dn( x) q n( x) dx
E
x
8- En considère que la densité des dopages suit la relation suivante : N D ( x) Calculer la valeur de l et puis celle du champ électrique à l'équilibre.
N D ( x 1 m) 5 1015 cm N D (0) 5 1017 cm
x
0.0217 m
e 1
kT q
E
3
3
5 1015 5 1017
N D (1 m) N D (0)
N D (0)e .
1.2 104 V / cm
Exercice IV Par application d'une contrainte mécanique sur silicium la bande des trous légers est soulevée par rapport à la bande trous lourds jusqu'à. Supposons que: mhh* = 0.49 mo et mlh* = 0.16 mo Eg=EC - EV, nouv, =1,12 -0.05=1.07 eV
EC EV
1.12 lh
hh
1- p
plh phh plh phh
mlh* * mhh 1.3
NV e 3 2
( EF Ev )/ kT
e e
NV
,
( EF EV )/ kT
( EF ( EV 0.05))/ kT
mlh* * mhh
3 2
e
m* kT 2 V 2 2
( EF EV EF ( EV 0.05))/ kT
3/2
mlh* * mhh
3 2
e0.05/ kT
1.07 eV 0.05eV
2- p
m* kT 2 V 2 2
p
plh
p
mlh* kT 2 2 2
p
kT 2 2 2
mV*
3/2
e
( EF EV )/ kT
e
( EF EV )/ kT
phh 3/2
* mhh kT 2 2 2
3/2
e
( EF ( EV 0.05))/ kT
3/2 * 3/2 mlh* 3/2 mhh e
* 3/2 mlh* 3/2 mhh e
0.05/ kT
2/3
0.05/ kT
e
( EF EV )/ kT
0.235m0
3- Quelle est la concentration des porteurs intrinsèque résultante?
Exercice V On considère un semiconducteur de Silicium de densité intrinsèque ni=1.5x1010cm-3 à la température T=300K. 1- Nommez trois façons différentes d’amener un électron de la bande de valence à la bande de conduction (de lui fournir de l’énergie). (3 points) En augmentant la temperature (regardez la distribution fermi-dirac) Avec la lumiere (photodiode) Avec un gros champ (pensez aux diodes zener) 2- Expliquez la différence entre recombinaison Auger et recombinaison directe radiative. 3- Comment change Ei si on dope du silicium pur avec 1.5x1012 atomes de phosphore? Ne change pas. Ei reste toujours au milieu (i est pour intrinsèque) 4- En équilibre les courants de diffusion et de drift sont tous deux présents. En appliquant une tension EXTERNE (V+ au cote P et V- du cote N), lequel de ces courants est-ce qu’on favorise? En appliquant une tension, on attenue l’effet de VB pour favoriser la diffusion.
5- On dope maintenant le silicium avec 5x1016cm-3 atomes de phosphore. En supposant que tous les dopants « participent a la conduction », de combien aurait changé le niveau de fermi par rapport au niveau de fermi intrinsèque. Quel type de semiconducteur est-ce? (P ou N). Les atomes de phosphore ont 5 électrons de valence le Sc est donc de type N, le nombre d’électrons se trouvant dans la bande de conduction n0 5x1016cm-3 le nombre de trous se trouvant dans la bande de valence est : ni2
n0 p0
p0
(1.5 1010 )2 5 1016
4500
le niveau de fermi change de : n0
ni e( EF
kTln
n0 ni
Ei ) / kT
EF
EF
Ei
Ei
0.025ln
51016 1.51010
0.260
Le niveau a change de 0.260eV 6- On dope maintenant un autre morceau de silicium avec 1x1018cm-3 atomes de bore. En supposant que tous les dopants « participent a la conduction », de combien aurait changé mon niveau de fermi par rapport au niveau de fermi intrinsèque. Quel type de semiconducteur est-ce? (P ou N) Les atomes de bore ont 3 électrons de valence le Sc est donc de type p, le nombre de trous se trouvant dans la bande de valence p0 1018cm-3 le nombre d’électrons se trouvant dans la bande de conduction est :
ni2
n0 p0
n0
(1.5 1010 )2 1018
150
le niveau de fermi change: n0
ni e( EF
Ei ) / kT
kTln
n0 ni
EF
Ei
Ei
1018 0.025ln 1.51010
EF
0.450
Donc Le niveau a change de 0.450eV
7- On connecte maintenant les deux blocs de silicium et on se retrouve avec un diagramme d’énergie qui ressemble à celui de la figure ci-dessous. Trouvez les valeurs de X1, X2 et X3 de cette figure. Notez que le dessin n’est probablement pas à l’échelle. D’apres les questions precedents on a: X2=0.260 eV X3=0.450 eV X1=X2+X3=0.260+0.450=0.710 eV 8- Calculez le voltage du champ qui se forme entre ces 2 régions. (2 points) Il y a 2 facons de le faire puisqu’on a 2 equations qui font la meme chose. L’equation la plus simple serait celle-ci puisque toutes les donnees sont la : VB
kTln
1 1018 4500
0.8259V
Sinon, on pourrait calculer les electrons du cote P et ensuite utiliser l’autre equation pour VB:
n0
VB
1.5 1010
2
1 1018
kTln
5 1016 225
225
0.8259V